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Intel salta la prossima generazione di tool litografici
II gigante dei chip ha informato i suoi fornitori che non comprerà le macchine con tecnologia a 157 nanometri Intel ha annunciato alle aziende che forniscono gli strumenti di produzione per i chip che non ha intenzione di passare alla prossima generazione di tool litografici a 157 nanometri: l'intenzione è di passare direttamente dall'attuale tecnologia a 193 nanometri ai tool EUV (Extreme Ultra-Violet) che offriranno canali di dimensioni ancora inferiori ai 157 nanometri.

Le macchine EUV sono ancora in fase di sviluppo e ci vorranno ancora alcuni anni prima di arrivare alla produzione effettiva. La cosa preoccupa non poco ASML uno dei principali fornitori di Intel il quale spera di vendere i suoi strumenti per la produzione di chip a 157 nanometri ad altre aziende.

L'origine della decisione di Intel di attendere la successiva tecnologia EUV sarebbe da ricercarsi nei forti investimenti compiuti dalla compagnia nel campo degli Exstreme Ultra Violet: importanti sforzi compiuti insieme ad ASML e ad altre aziende che non avranno una ricaduta effettiva nella produzione prima del 2005.


Autore: articoligratis.com

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